MOCVD全称是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金属有机化学气相沉积设备），是在基板上生长半导体薄膜的一种技术。利用MOCVD技术，许多纳米层可以以极高的精度沉积，每一层都具有可控的厚度，以形成具有特定光学和电学特性的材料。MOCVD是用于LED芯片和功率器件制造的关键工艺技术。

中微公司在MOCVD领域有非常深厚的技术积累。公司于2013年发布了第一代MOCVD设备 Prismo D-BLUE®，由于其较高的灵活性和生产效率、优异的性能以及简便易行的设备维护，中微的MOCVD设备快速获得了客户的认可和信任。

2016年，中微发布了其第二代MOCVD设备 Prismo A7®。在 Prismo D-BLUE的基础上，Prismo A7增加了一些新的特征，以进一步提升生产效率和加工性能。该设备已应用于国内众多领先的LED生产线。

中微具有自主知识产权的MOCVD设备Prismo HiT3®，是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备。

在不到三年的时间里，中微已经在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。

中微半导体设备（上海）股份有限公司具有自主知识产权的MOCVD设备可配置多达4个反应腔，可以同时加工232片2英寸晶片或56片4英寸晶片，工艺能力还能延展到生长6英寸和8英寸外延晶片。每个反应腔都可以独立控制，这一设计可以实现优异的生产灵活性。Prismo D-BLUE®是首台被主流LED生产线采用并进行大批量LED和功率器件外延片生产的国产MOCVD设备。

产品特点:

可独立控制的反应腔运行模式

自主的实时监控系统

精准的参数控制

全自动化处理

符合半导体标准的软件控制系统

竞争优势:

优异的工艺重复性，简化工艺调整需求，提高产品良率

19英寸大尺寸托盘极大地提高了设备单位产能，降低了生产成本

集成顶盖升降机构，简化设备维护，提高设备利用率

    符合SEMI S2安全标准，提升设备的安全性能